रिएक्टरों को कैसे गर्म किया जाता है?

रिएक्टरों को कैसे गर्म किया जाता है?

रिएक्टर को गर्म करने के कई तरीके यहां दिए गए हैं। और विशिष्ट विकल्प प्रतिक्रिया सामग्री की प्रकृति, प्रक्रिया आवश्यकताओं और उपकरण पैमाने पर निर्भर करता है। रिएक्टर को गर्म करने के कुछ सामान्य तरीके निम्नलिखित हैं।

रिएक्टर की बाहरी दीवार पर एक जैकेट लगाई जाती है, और रिएक्टर में सामग्री को जैकेट में ऊष्मा माध्यम (जैसे भाप, गर्म पानी या थर्मल तेल) प्रसारित करके गर्म किया जाता है। जैकेट द्वारा तापन एक समान है और विभिन्न तरल प्रतिक्रियाओं के लिए उपयुक्त है। इसका उपयोग आमतौर पर रासायनिक और दवा उद्योगों में बड़े रिएक्टरों में किया जाता है

रिएक्टर के अंदर एक कुंडल स्थापित किया जाता है, और सामग्री को कोल के माध्यम से एक हीटिंग माध्यम (जैसे भाप या गर्मी हस्तांतरण तेल) पारित करके सीधे गर्म किया जाता है। इस उपचार पद्धति में उच्च तापन क्षमता और सटीक तापमान नियंत्रण है, यह उन रासायनिक प्रतिक्रियाओं के लिए उपयुक्त है जिनके लिए सटीक तापमान नियंत्रण की आवश्यकता होती है।

रिएक्टर की दीवार को सीधे इलेक्ट्रिक हीटर द्वारा गर्म किया जाता है या हीटिंग के लिए जैकेट में इलेक्ट्रिक हीलिंग तत्व रखा जाता है। इसे संचालित करना आसान है। गर्म करने की गति तेज है। और तापमान को नियंत्रित करना आसान है। यह प्रयोगशाला या छोटे पैमाने पर उत्पादन परिदृश्यों के लिए उपयुक्त है, खासकर जब कोई भाप स्रोत न हो।

केतली के शरीर में प्रवेश करने के लिए दूर अवरक्त विकिरण का उपयोग करें और केतली में सामग्री को सीधे गर्म करें, समान ताप और कम ऊर्जा खपत के साथ। इसका उपयोग कुछ विशेष आवश्यकताओं के साथ रासायनिक प्रतिक्रियाओं के लिए किया जाता है और इसमें एक संकीर्ण अनुप्रयोग सीमा होती है।

इलेक्ट्रोमैग्नेटिक इंडक्शन का उपयोग रिएक्टर की दीवार में एड़ी की धाराएं उत्पन्न करने के लिए किया जाता है, रिएक्टर की दीवार को सीधे गर्म किया जाता है और इस प्रकार सामग्री को गर्म किया जाता है। यह जल्दी गर्म होता है, इसमें सटीक तापमान नियंत्रण होता है, और प्रदूषण मुक्त होता है। इसका उपयोग अक्सर उच्च परिशुद्धता आवश्यकताओं के साथ प्रयोगशालाओं और रासायनिक प्रतिक्रियाओं में किया जाता है

माइक्रोवेव विकिरण ऊष्मा उत्पन्न करने के लिए सामग्री के अणुओं पर सीधे कार्य करता है, जिससे सामग्री गर्म हो जाती है। हीटिंग की गति तेज है और आंतरिक हीटिंग एक समान है। यह विशेष प्रतिक्रिया प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है जिनके लिए तेज़ हीटिंग या समान हीटिंग की आवश्यकता होती है।

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